سامسونگ توسعه لیتوگرافی جدید 5 نانومتری خود را به پایان رسانده است

سامسونگ امروز اعلام کرد که با موفقیت فرایند تولید نسل بعدی 5 نانومتری خود را با فناوری EUV( لیتوگرافی ماورای بنفش) به پایان رسانده و این فرایند حالا آماده برای نمونه‌برداری است.سامسونگ ادعا می‌کند که معماری جدید فضای تخصیص داده شده به تراشه را تا  درصد بهینه‌تر کرده، میزان مصرف انرژی را تا 20 درصد کاهش می‌دهد و عملکرد آن تا 10 درصد افزایش پیدا می‌کند. فرایند توسعه تراشه‌های 5 نانومتری برپایه لیتوگرافی ماورای بنفش خواهد بود و سامسونگ تصمیم دارد تا آن را در کارخانه Hwaseong در کره‌جنوبی تولید کند. این کارخانه در طول زمان و با رسیدن به نیمه دوم سال ظرفیت تولید خود را گسترش خواهد داد و اگر همه چیز طبق برنامه پیش رود، در اوایل سال 2020 تولید انبوه آن آغاز خواهد شد.البته هنوز برای این اظهار نظرها کمی زود است، اما باتوجه به روند تولید تراشه‌های 7 نانومتری، این شرکت به احتمال بسیار زیاد تولید انبوه چیپ‌های جدید خود را در سال 2020، یعنی درست زمانیکه برای معرفی نسل جدید گوشی‌های گلکسی S آماده می‌شویم، آغاز می‌کند. علاوه‌بر معماری 5 نانومتری، سامسونگ مشغول کار برروی چیپ‌های 6 نانومتری بر پایه لیتوگرافی فرابنفش با همکاری تعدادی از مشتریان خود است. پیش بینی می‌شود که فرآیند ساخت این تراشه‌ها هزینه‌ی کمتری در مقایسه با چیپ‌های 5 نانومتری خواهد داشت و احتمالاً برای گوشی‌های میان‌رده استفاده خواهد شد.TSMC رقیبی جدی برای سامسونگالبته بد نیست به این نکته نیز اشاره کنیم که در حال حاضر سامسونگ در زمینه تولید چیپ‌های 5 نانومتری بی‌رقیب نیست. TSMC یکی دیگر از شرکت‌های بزرگ و فعال در صنعت نیمه‌هادی که مسئولیت سنگین تولید تراشه‌های اپل را نیز برعهده دارد، چند روز پیش اعلام کرده بود که زیرساخت‌های تولید تراشه‌های 5 نانومتری را برای مشتریان خود فراهم کرده است. تایوانی‌ها هم از لیتوگرافی ماورای بنفش به جای فین‌فت بهره برده‌اند و طبق پیش‌بینی‌ها آیفون‌های 2 نسل بعد، یعنی سال 2020 از این تراشه‌ها استفاده خواهند کرد.

پاسخی بگذارید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *